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EDC系列真空机组

EDC系列真空泵机组配备了自主研发的混合真空泵和新型罗茨泵，是一种小型化、高度集成化的真空系统。对标国际一线品牌，可以实现同等工艺应用国产替代，保证性能的同时降低运营成本。
MICROWAY创新的干泵机组设计只为了在泛半导体领域提供高效、稳定的真空方案。
适用范围：锂电池、光伏、液晶面板、晶圆等泛半导体行业薄膜工艺（PVD/CVD/ALD)和刻蚀、离子注入工艺。

干泵机组低能耗高真空低噪音高性能

产品特点

超节能，能耗比国外竞对低40%-60%
ALD EDC4040抽气能力满足60000L/min 综合能耗2.1kw/h
PECVD EDC2020抽气能力满足30000L/min 综合能耗1.1kw/h

耐腐蚀
EDC系列真空机组BP泵的转子采用316SS或其它耐蚀合金，泵壳采用镀层，可以满足CI、CFX、CHFX、TEOS、F2、HF等气体的腐蚀，具有更强的耐腐蚀能力，更满足严苛工艺要求。

产品参数介绍

参数详情性能曲线设备尺寸

规格型号	EDC610	EDC1220	EDC2020	EDC2540	EDC4040	EDC4565	EDC6040	EDC6065
最大抽气能力 (m³/h)	605	1200	2000	2250	3900	4200	4800	5400
最大抽气能力 (L/min)	10000	20000	33000	39000	65000	70000	80000	90000
极限真空度 (Pa)	0.2	0.2	0.2	0.1	0.1	0.1	005	0.05
极限真空度 (mtorr)	1.5	1.5	1.5	0.75	0.75	0.75	0.4	0.4
上泵型号	MSR600	MDR1200	MDR2000	MDR2000	MDR4000	MSR4500	MDR6000	MDR6000
下泵型号	MHS120	MHS200	MHS200	MHS400	MHS400	MHS650	MHS400	MHS650
装机功率上/下 (Kw)	3/3	6/6	6/6	11/6	11/11	14/14	14/11	14/14
上泵额定转速 (rpm)	4000	4000	4000	4000	4000	4000	4000	4000
下泵额定转速 (rpm)	4000	4000	4000	4000	4000	4000	4000	4000
进气口规格	ISO100	ISO100	ISO160	ISO160	ISO 160	ISO160	ISO200	ISO200
排气口规格	KF25	KF40	KF40	KF40	KF50	KF50	KF50	KF50
冷却水耗量 25°C (L/min)	7	8	8	10	10	12	10	12
冷却水入口最小压力 (Bar)	2.0	2.0	2.0	2.0	2.0	2.0	2.0	2。0
氮气耗量(气封) 2Bar (L/min)	10	15	15	20	20	20	20	20
氮气耗量(气镇) 4Bar (L/min)	10-60	10-65	10-65	10-65	10-65	10-80	10-80	10-80
冷却水连接(自闭接头)	Φ12	Φ12	Φ12	Φ12	Φ12	Φ12	Φ12	Φ12
氮气连接(快插)	Φ6	Φ6	Φ6	Φ6	Φ6	Φ6	Φ6	Φ6
重量 (Kg)	289	425	489	524	612	721	756	809
稳定运行噪音 (dB(a))	62	65	65	65	68	68	72	72
泵壳最高允许温度 (°C)	95	100	100	110	110	120	110	120
排气口最高温度 (°C)	105	115	115	125	125	140	125	140
尺寸（长x宽x高） (mm)	1060x407x700	1060x407x700	1030x448x700	1250x553x700	1350x552x700	1350x552x700	1420x590x945	1420x590x945
外接电缆规格	4 x 2.5	4 x 4.0	4 x 4.0	4 x 6.0	4 x 10.0	3 x 16+1 x 10	4 x 10.0	3 x 16+1 x 10
外接空开规格	20A	40A	40A	50A	63A	80A	63A	80A
通讯方式规格	Modbus RTU，Modbus TCP，连接阵脚（IO通讯）DB9，DB15，DB25