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用户痛点需求作为致力于推动国产半导体产业链各环节协同发展与能力提升的平台，九峰山实验室新建MEMS半导体器件加工产线从项目规划开始就设定了国产设备的要求。同时，各设备还要满足工艺要求，保障工艺测试与量产的稳定性。为此，项目方基于国外品牌真空泵的性能指标设置了严格的国产真空泵筛选标准，包括抽速、真空度、噪音、稳定性、能耗、电气控制等指标。
所有国产真空泵必须经过6个月以上不间断负载测试，无故障、无卡泵等故障报警。
所有国产真空泵必须能做到与国外同等品牌在同等工艺上同等替代，无缝衔接。
所有国产真空泵必须掌握自主核心技术，没有知识产权纠纷。
我们的方案针对客户需求，我们组织研发工程师、应用工程师在前期的沟通交流和现场实勘基础上制定了半导体真空泵解决方案。
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工艺制程 |
真空泵推荐 |
性能描述 |
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薄膜工艺（HDP-CVD） |
EDC610 |
新型罗茨泵+自主研发的混合干泵，抽速605m³/h，真空度0.2Pa,体积小，性能稳定，能耗低。通过涂层技术加持，可以有效耐粉尘、耐腐蚀。 |
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深硅刻蚀工艺 |
EDC1220 EHS120 |
新型罗茨泵+自主研发的混合干泵，抽速1200m³/h，真空度0.2Pa,体积小，性能稳定，能耗低。通过涂层技术加持，可以有效耐粉尘、耐腐蚀。 |
实施效果1、自主知识产权干式真空泵，国产替代无忧
2、性能稳定，抽速、真空度、噪音等核心指标媲美国外品牌，在工艺应用、真空泵端口匹配方面可以与国外品牌同等替换
3、真空泵能耗更低，节能降耗效果明显
4、干式真空泵，无油无污染，符合半导体制造洁净需求
实施效果
1、在试用阶段，各工艺真空泵连续负载运行9个月无规定故障
2、节能效果明显，超竞品50%以上
客户反馈试用期间，迈科微真空泵的性能得到充分验证，打消了客户对国产干泵的担忧。迈科微真空泵的优秀节能效果被客户广泛认可。最终，客户选择与迈科微合作。迈科微用专业周到的服务助力客户技术研发、产品量产。
