工艺工序

核心工艺作用

PVD溅射（金属/ITO）

1. 杜绝氧气水汽，防止金属氧化、ITO电阻偏高2. 延长粒子自由程，膜层均匀致密、附着力强3. 稳定Ar等离子溅射

PECVD（SiNx/SiO2）

1. 稳定等离子起辉，沉积速率均匀2. 持续抽除SiH4、NH3废气，防爆防沉积颗粒3. 控制TFT漏电，保障绝缘层品质

干法刻蚀（金属 / 介质层图形化，含 Cl₂、SF₆卤素腐蚀气体）

1. 抽除Cl₂/SF₆腐蚀性尾气，保护设备;

2. 实现垂直刻蚀，图形精准;

3. 带走粉尘颗粒，降低亮点不良

Load-Lock传送腔

1. 隔离大气污染工艺腔;

2. 快速抽破真空，提升机台产能节拍;

3. 高频启停稳定、低颗粒真空干燥/光刻烘烤

LCD真空贴合/液晶注入

完全消除空气气泡，避免盒内Mura、白斑、液晶填充不均

OLED有机蒸镀

1. 极致低水氧，防止有机发光层失效、衰减;

2. 有机分子无散射飞行，膜层均匀无色差;

3. 冷凝捕捉有机蒸汽，保洁净

OLED TFE/ALD封装

制备纳米级致密阻隔膜，隔绝水氧，提升OLED寿命、防烧屏

T8印刷OLED脱溶剂

逐级抽除高沸点油墨溶剂，防止像素收缩、结晶、色偏黑点

工艺工序

真空等级/工作压力

痛点/难点

PVD溅射（金属/ITO）

高真空 10⁻⁶ Pa级工作0.5~2Pa

1. 无油真空环境，洁净度要求高;

2. 前级粗抽阶段，抽出含微量工艺气体与残留杂志，真空泵要有一定的耐水气和耐粉尘能力;

3. 大抽速、高负载真空泵，匹配面板大尺寸真空腔体连续稳定工作要求;

PECVD（SiNx/SiO2）

中真空 10^-³ Pa级工作1~10Pa

1.无油真空环境，要求真空泵大抽速、稳压能力强；
2.适配工况：持续抽除硅烷 (SiH₄)、氨气 (NH₃)、N₂、微量粉尘、水汽；耐受反应副产物粉末；

3.持续抽真空；

干法刻蚀（金属 / 介质层图形化，含 Cl₂、SF₆卤素腐蚀气体）<

中真空 0.1~1Pa

1.腐蚀性介质，需要真空泵耐腐蚀；

2.颗粒多，真空泵要有抗粉尘能力，不易卡泵；

Load-Lock传送腔

低真空 10~1000Pa

频繁破真空，要求真空泵高负载、抽速快，满足高节拍要求；

LCD真空贴合/液晶注入

低真空 <1Pa

1.全程无油，洁净度高，不能使用油泵。干泵密封性好，不能漏油；

2.大抽速，适配频繁破真空；

3. 介质兼容性：耐液晶挥发物、微量水汽

贴合过程会释放液晶小分子、PI 溶剂蒸汽；螺杆泵腔体内壁耐腐蚀、易清洁，不易结胶堵塞，延长保养周期。

4. 低振动、低噪音

OLED有机蒸镀

超高真空 10⁻⁴~10⁻⁵ Pa

1. 真空度波动小，稳压；

2. 柔性蒸镀腔体从常压抽至工作真空（10⁻⁵ Pa）≤20 min；

3. 冷凝捕捉有机蒸汽，保洁净；

OLED TFE/ALD封装

高真空 0.1~5Pa

稳压；增加防腐涂层；

印刷OLED脱溶剂

梯度低真空

1.大腔体，需要大抽速真空泵；

2.螺杆结构容凝能力强，可处理大量溶剂蒸汽，不易堵转、结晶；

3.泵腔内壁、转子整体 PTFE / 特氟龙防腐涂层，耐受芳香烃、卤代芳烃油墨溶剂；

4.前置冷阱强制配套，溶剂回收 + 保护泵体；

工艺工序

标配真空泵组合

推荐真空泵型号

PVD溅射（金属/ITO）

磁悬浮分子泵 + 螺杆干泵

EMS650/EMS850/EMS950

PECVD（SiNx/SiO2）

多级罗茨干泵

EDC2020/EDC4040

干法刻蚀（金属 / 介质层图形化，含 Cl₂、SF₆卤素腐蚀气体）

防腐螺杆干泵

EMS850X/EMS1200X

Load-Lock传送腔

大流量罗茨干泵

EDS4080/EDS4580

LCD真空贴合/液晶注入

螺杆+罗茨泵组

EDC1220/EDC2020

OLED有机蒸镀

冷凝泵+分子泵+干泵

EMS850/EHS650

OLED TFE/ALD封装

ALD专用低颗粒罗茨干泵

T8印刷OLED脱溶剂

耐溶剂螺杆干泵+冷阱

EDS系列